半导体

半导体长晶炉设备 PPC 解决方案

方案简介

新能源汽车、光伏等领域的迅猛发展导致对第三代半导体需求激增，碳化硅（SiC）衬底市场迎来爆发期，长晶炉作为碳化硅衬底制造的核心制程，需在 2300℃ 高温密闭环境中持续 7 天以上作业，其控制终端普遍采用“触摸屏 + PLC 控制系统”，从而对稳定性、数据采集精度提出较高要求。

其内部的核心控制系统保障着整个工序的进行，面对严苛高温和长时间不间断运行，控制终端的产品设计会综合抗干扰性、接口丰富性、数据传输速度等角度来进行优化迭代，工业级触控平板电脑可支持精准调控、多参数实时反馈的需求，集成在长晶炉的控制柜内，扩展连接多个外部设备进行协作。